精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)

簡(jiǎn)要描述：譜量光電研發(fā)制造的精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)，能夠滿足精密負(fù)載對(duì)振動(dòng)隔離需求。上面板采用304 無(wú)磁不銹鋼，臺(tái)面內(nèi)核為三層夾心式蜂窩結(jié)構(gòu)，內(nèi)核密度大幅度提高，具有優(yōu)秀的硬重比和剛性，同時(shí)保證了較低的固有頻率，具備行業(yè)較高的隔振效果。上臺(tái)面采用精密磨削工藝，平面度可達(dá)≤0.05mm/㎡，表面粗糙度<0.6um，回旋打磨工藝清除毛邊，達(dá)到無(wú)反射、啞光效果，面板具有 M6 陣列螺孔，易于固定光學(xué)元件。

產(chǎn)品型號(hào)：PLGZQ
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-06-05
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精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)

產(chǎn)品介紹

譜量光電研發(fā)制造的精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)，能夠滿足精密負(fù)載對(duì)振動(dòng)隔離需求。上面板采用304 無(wú)磁不銹鋼，臺(tái)面內(nèi)核為三層夾心式蜂窩結(jié)構(gòu)，內(nèi)核密度大幅度提高，具有優(yōu)秀的硬重比和剛性，同時(shí)保證了較低的固有頻率，具備行業(yè)較高的隔振效果。上臺(tái)面采用精密磨削工藝，平面度可達(dá)≤0.05mm/㎡，表面粗糙度<0.6um，回旋打磨工藝清除毛邊，達(dá)到無(wú)反射、啞光效果，面板具有 M6 陣列螺孔，易于固定光學(xué)元件。

精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)氣浮支架采用 304 無(wú)磁不銹鋼整體焊接工藝（四支撐或六支撐結(jié)構(gòu)），半膜片式空氣彈簧，采用進(jìn)口三水平調(diào)節(jié)閥技術(shù)，反應(yīng)靈敏，響應(yīng)迅速，在超載偏重的實(shí)驗(yàn)條件下，能瞬間恢復(fù) 初始的平衡狀態(tài)。支撐腿內(nèi)部為二級(jí)氣室結(jié)構(gòu)，氣室間帶有阻尼孔，氣動(dòng)元件全部采用德國(guó)FESTO 產(chǎn)品，標(biāo)配優(yōu)質(zhì)大功率靜音壓縮機(jī)，整體結(jié)構(gòu)保證平臺(tái)有較高的穩(wěn)定性。

譜量光電精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)，可選臺(tái)面無(wú)磁與整體無(wú)磁兩種類(lèi)型。

精密無(wú)磁氣浮隔振光學(xué)平臺(tái).png